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廈門聯芯工藝取得重大突破 28納米HKMG試產良率達98%

2018-03-27 12:51:35廖麗萍?來源: 東南網  責任編輯: 段馬水   我來說兩句
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東南網3月27日(福建日報記者 廖麗萍 通訊員 雷飏)記者從廈門火炬高新區管委會獲悉,園區企業聯芯集成電路制造(廈門)有限公司已于今年2月成功試產采用28納米High-K/Metal Gate工藝制程的客戶產品,試產良率高達98%。這是該公司28納米Poly/SiON制程技術成功量產以來,再次取得技術發展上的新里程碑。

據介紹,聯芯28納米High- K/Metal Gate工藝制程采用了目前全球最先進的Gate Last制程技術,能大幅減少柵極的漏電量,提升晶體管的性能,可以應用于更多樣化的各類電子產品。

目前,聯芯能同時提供Poly/SiON和High-K/Metal Gate工藝技術,成為國內最先進的28納米晶圓專工企業,標志著廈門集成電路制造水平又邁上了一個新臺階,對奠定廈門集成電路產業在全國的戰略地位具有重要意義。

聯芯集成電路制造項目總投資62億美元,是海峽兩岸合資建設的第一座12英寸晶圓廠,也是福建省目前投資金額最大的單體項目。聯芯于2016年11月正式營運投產,目前公司正全力提速至滿載產能。

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